Hyaluronsyre og chok-chok alger fugtgivende maske

Beskrivelse

Biologisk nedbrydelig stofmaske med 88% troldnød, et kompleks af 8 marine planter og niacinamid, der hjælper med at fylde og fugte huden i dybden.

Egenskaber og fordele ved Hyaluronsyre og chok-chok alger fugtgivende maske

"Chok-Chok" er et populært koreansk ord, der beskriver strålende og meget fugtet hud. Denne biologisk nedbrydelige stofmaske er ideel til dem med dehydreret hud, der ønsker at øge lysstyrken og opnå den koreanske glashudeffekt. Den hyaluronsyre- og tangstimulerende maske indeholder 88% troldnød, den vigtigste aktive ingrediens til at lindre huden, rense og minimere forstørrede porer.

Marine Plant Complex med 7 typer algeekstrakter og Marine Narcissus (marin plante), beriger huden med vitale næringsstoffer. Niacinamid, et derivat af vitamin B3, beroliger, lysner huden og forhindrer forekomsten af ​​mørke pletter. Aquaxyl hjælper med at optimere hudens hydreringsflow, kontrollerer cirkulation og vandreserver, hvilket giver en "anti-dehydreringsskjold"-handling med synlige effekter på 8 timer.

Hudtype: Alle hudtyper.

Nøgleingredienser: 88 % troldnødvand, 8 marineplantekomplekser, 0,1 % hyaluronsyre.

Hvordan anvender man Hyaluronsyre og chok-chok alger fugtgivende maske?

Brug hyaluronsyre- og algemasken til at fylde og fugte huden dybt. Påfør på rent ansigt og fjern efter 10-15 minutter. Når det er fjernet, massér det resterende serum ind i din hud, indtil det er helt absorberet. Skyl ikke. Chok Chok maske kan bruges til at forberede huden til makeup, da den hjælper med at forbedre hudens tekstur.

Lagringsbetingelser

Opbevares på et køligt, tørt sted og beskyttet mod direkte lys.

Sammensætning af Hyaluronsyre og chok-chok alger fugtgivende maske

Maritimum-ekstrakt, natriumhyaluronat, butylenglycol, caprylylglycol, pentylenglycol, polyglyceryl-10-laurat, natriumfytat, xanthangummi, ethylhexylglycerin, carbomer, tromethamin, limonen*.*Naturligt til stede i æteriske olier.